隨著集成方法學和微細加工技術的持續成熟和不斷發展，以及集成技術應用領域的不斷擴大，集成電路的發展趨勢將呈現小型化、系統化和關聯性的態勢。[36][13]
5.1.1 器件特征尺寸不斷縮小
自1965年以來， 集成電路持續地按摩爾定律增長， 即集成電路中晶體管的數目每18個月增加一倍。每2～3年制造技術更新一代，這是基于柵長不斷縮小的結果， 器件柵長的縮小又基本上依照等比例縮小的原則， 同時促進了其它工藝參數的提高。預計在未來的10～15年， 摩爾定律仍將是集成電路發展所遵循的一條定律， 按此規律，CMOS器件從亞半微米進入納米時代，即器件的柵長小于100 nm轉到小于50 nm的時間將在2010年前后。
